Shallow and deep trench isolation for use in RF-bipolar IC:s

Publicerad 2000 av Markus Forsberg (född 1974)

Engineering And Technology Teknik Och Teknologier
Författare:
Typ av publikation: Konferensbidrag
Typ av innehåll: Refereegranskad publ.

ISBN:N/A
Ingår i:

Abstract