Effect of diffused boron and phosphorus in Si(100) on chemical mechanical polishing removal rate

av Markus Forsberg (född 1974)


Författare:
Typ av publikation: Artiklar
Typ av innehåll: Refereegranskad publ.

ISBN:N/A
Ingår i:
Semiconductor Science and Technology

Published by: Uppsala universitet, ISSN:0268-1242,

Abstract