A shallow and deep trench isolation process module for RF BiCMOS

av Markus Forsberg (född 1974)


Författare:
Typ av publikation: Artiklar
Typ av innehåll: Refereegranskad publ.

ISBN:N/A
Ingår i:
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY

Published by: Uppsala universitet, ISSN:0013-4651,

Abstract